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구조-최적화된 실리콘 입자로 트리클로로실란을 생성하는 방법

기관명, 출원인, 출원번호, 출원일자, 공개번호, 공개일자, 등록번호, 등록일자, 권리구분, 초록, 원본url, 첨부파일 순으로 구성된 표입니다.
기관명	NDSL
출원인	와커 헤미 아게
출원번호	10-2021-7033504
출원일자	2021-10-18
공개번호	20211124
공개일자	0000-00-00
등록번호
등록일자	0000-00-00
권리구분	KUPA
초록	본 발명은 유동층 반응기에서 화학식 1의 클로로실란을 생성하는 방법을 제공하며:상기 화학식 1에서, n은 1 내지 4의 값을 나타내며, 상기 방법에서, 수소-함유 및 실리콘 테트라클로라이드를 포함하는 반응 기체는 350℃ 내지 800℃의 온도에서 실리콘을 포함하는 미립자 촉매 물질(particulate catalyst material)을 사용하여 반응하며, 작동 과립물(working granulate) - 유동층 반응기 내로 도입되는 과립 또는 과립 혼합물을 나타냄 - 은 구조 매개변수 S로 설명되는 1 질량%의 실리콘-함유 입자 S를 포함하고, S는 적어도 0의 값을 갖고 하기와 같이 계산되며:상기 방정식 (1)에서,는 대칭-가중 구형성 인자(symmetry-weighted sphericity factor)이며,는 벌크 밀도(bulk density) [g/cm3]이고,는 평균 미립자 고체 밀도 [g/cm3]이다.
원문URL	http://click.ndsl.kr/servlet/OpenAPIDetailView?keyValue=03553784&target=KUPA&cn=KOR1020217033504
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