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특허/실용신안

고순도 불소화 탄화수소, 플라즈마 에칭용 가스로서의 사용, 및, 플라즈마 에칭 방법

특허 실용신안 개요

기관명, 출원인, 출원번호, 출원일자, 공개번호, 공개일자, 등록번호, 등록일자, 권리구분, 초록, 원본url, 첨부파일 순으로 구성된 표입니다.
기관명 NDSL
출원인 제온 코포레이션
출원번호 10-2016-7012656
출원일자 2016-05-13
공개번호 20160623
공개일자 0000-00-00
등록번호
등록일자 0000-00-00
권리구분 KUPA
초록 본 발명은 순도가 99.9 용량% 이상, 포함되는 부텐류가 합계로 1000 용량ppm 이하인 것을 특징으로 하는, 식 : R-F (식 중, R 은 이소부틸기 또는 t-부틸기를 나타낸다.) 로 나타내는 불소화 탄화수소, 이 불소화 탄화수소의 플라즈마 에칭용 가스로서의 사용, 및 상기 불소화 탄화수소를 플라즈마 에칭용 가스로서 사용하여, 실리콘 또는 실리콘 산화막 상에 적층된 무기 질화막을 선택적으로 플라즈마 에칭하는 플라즈마 에칭 방법이다.
원문URL http://click.ndsl.kr/servlet/OpenAPIDetailView?keyValue=03553784&target=KUPA&cn=KOR1020167012656
첨부파일

추가정보

과학기술표준분류, ICT 기술분류, IPC분류체계CODE, 주제어 (키워드) 순으로 구성된 표입니다.
과학기술표준분류
ICT 기술분류
IPC분류체계CODE C07C-019/08,H01L-021/3065,H01L-021/3213
주제어 (키워드)