기업조회

본문 바로가기 주메뉴 바로가기

특허/실용신안

MC-1R, MC-2R 및 μ 아편계 수용체 조절

특허 실용신안 개요

기관명, 출원인, 출원번호, 출원일자, 공개번호, 공개일자, 등록번호, 등록일자, 권리구분, 초록, 원본url, 첨부파일 순으로 구성된 표입니다.
기관명 NDSL
출원인 바스프 뷰티 케어 솔루션즈 프랑스 에스에이에스
출원번호 10-2015-7005421
출원일자 2015-03-02
공개번호 20150326
공개일자 0000-00-00
등록번호
등록일자 0000-00-00
권리구분 KUPA
초록 본 발명은, 재-상피화, 신경분포의 유지, 피부 관류 또는 정상 색소침착의 복원을 위하여, 혹은 노화에 대항하기 위하여, 혹은 피부 노화와 무관 또는 유관한 색소침착을 조절하기 위하여, 특히 표피 세포의 증식 및 분화를 조절하는 POMC 유전자 산물의 수용체들(MC-1R, MC-2R 및 μ 아편계 수용체)의 발현을 조절하고, 가능하게는 피부 세포에서 POMC의 발현을 조절하는 활성 물질들에 관한 것이다. 또한 본 발명은 그러한 활성 물질들의 선별 방법에 관한 것이다.
원문URL http://click.ndsl.kr/servlet/OpenAPIDetailView?keyValue=03553784&target=KUPA&cn=KOR1020157005421
첨부파일

추가정보

과학기술표준분류, ICT 기술분류, IPC분류체계CODE, 주제어 (키워드) 순으로 구성된 표입니다.
과학기술표준분류
ICT 기술분류
IPC분류체계CODE A61K-008/97,A61K-036/14,A61K-031/437,A61Q-019/00
주제어 (키워드)