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특허/실용신안

플라즈마 화학기상 장치

특허 실용신안 개요

기관명, 출원인, 출원번호, 출원일자, 공개번호, 공개일자, 등록번호, 등록일자, 권리구분, 초록, 원본url, 첨부파일 순으로 구성된 표입니다.
기관명 NDSL
출원인 (주)에스엔텍
출원번호 10-2013-0098377
출원일자 2013-08-20
공개번호 20150109
공개일자 0000-00-00
등록번호
등록일자 0000-00-00
권리구분 KUPA
초록 본 발명은 플라즈마 화학기상 장치에 관한 것으로서, 상호 구획되어 독립된 복수의 진공공간을 갖는 진공챔버; 상기 진공공간들의 진공도를 조절하는 진공조절부; 적어도 일부의 외주면이 상기 각 진공공간에 위치하는 형태로 상기 각 진공공간에 회전 가능하게 하나씩 설치되고, 상기 외주면에 기재가 감아 도는 원형전극; 상기 각 원형전극을 감아 도는 상기 기재 측으로 자기장을 형성하는 적어도 하나의 자기장 발생부재; 상기 진공공간들 내부로 공정 가스를 공급하는 가스공급부를 포함하는 것을 특징으로 한다. 이에 의해, 복수의 공정을 독립적이면서 연속적으로 수행할 수 있으며, 고속 공정에서도 공정 안정성과 품질 향상을 확보할 수 있는 플라즈마 화학기상 장치가 제공된다.
원문URL http://click.ndsl.kr/servlet/OpenAPIDetailView?keyValue=03553784&target=KUPA&cn=KOR1020130098377
첨부파일

추가정보

과학기술표준분류, ICT 기술분류, IPC분류체계CODE, 주제어 (키워드) 순으로 구성된 표입니다.
과학기술표준분류
ICT 기술분류
IPC분류체계CODE C23C-016/509,H01L-021/205
주제어 (키워드)