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플라즈마 화학기상 장치

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기관명	NDSL
출원인	(주)에스엔텍
출원번호	10-2013-0098373
출원일자	2013-08-20
공개번호	20150305
공개일자	0000-00-00
등록번호
등록일자	0000-00-00
권리구분	KUPA
초록	본 발명은 경질의 기재를 공정 처리 대상으로 하는 플라즈마 화학기상 장치에 관한 것으로서, 진공공간을 형성하는 진공챔버; 상기 진공공간에 마련되어 상기 공정 수행 과정에서 상기 기재를 공급 측에서 배출 측으로 적재 이송시키는 적재이송부; 상기 기재의 공정 대상면의 반대면에 인접 배치되는 전극; 상기 전극으로 전원을 공급하는 전원공급부; 상기 진공챔버 내부의 진공도를 조절하는 진공조절부; 상기 기재의 공정 대상면 측으로 공정가스를 공급하는 가스공급부;를 포함하는 것을 특징으로 한다. 이에 의해, 경질의 기재를 이송시키면서 그 표면에 고품질 성막이나 식각 또는 표면 처리 공정 중 어느 한 공정을 고속으로 수행할 수 있는 플라즈마 화학기상 장치가 제공된다.
원문URL	http://click.ndsl.kr/servlet/OpenAPIDetailView?keyValue=03553784&target=KUPA&cn=KOR1020130098373
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