기업조회

본문 바로가기 주메뉴 바로가기

특허/실용신안

마이크로리소그래피 투영 노광 장치 및 이러한 장치의 광학적 파면 변형의 교정 방법

특허 실용신안 개요

기관명, 출원인, 출원번호, 출원일자, 공개번호, 공개일자, 등록번호, 등록일자, 권리구분, 초록, 원본url, 첨부파일 순으로 구성된 표입니다.
기관명 NDSL
출원인 칼 짜이스 에스엠티 게엠베하
출원번호 10-2016-7009131
출원일자 2016-04-06
공개번호 20160519
공개일자 0000-00-00
등록번호
등록일자 0000-00-00
권리구분 KUPA
초록 마이크로리소그래피 투영 노광 장치(10)는 광학 파면 변형을 교정하도록 구성되는 교정 장치(40)를 포함하며 제 1 광학 소자(42a), 제 2 광학 소자(42b), 및 제 1 배열과 제 2 배열 사이에서 상기 제 1 광학 소자 및 상기 제 2 광학 소자를 이동시키도록 구성되는 구동 메커니즘(44)을 포함한다.상기 제 1 배열에서, 상기 제 1 광학 소자(42a)는 투영 광 경로(PLP)에 배열되는 적어도 일부를 갖는 내부 광학 소자이며 상기 제 2 광학 소자(42b)는 상기 투영 광 경로(PLP)의 밖에 완전히 배열되는 외부 광학 소자이다.상기 제 2 배열에서, 상기 제 2 광학 소자는 상기 내부 광학 소자이며 상기 제 1 광학 소자는 상기 외부 광학 소자이다.교정 장치는 외부 광학 소자의 온도 분포를 변경하도록 구성되는 온도 제어 장치(50a, 50b)를 더 포함한다.
원문URL http://click.ndsl.kr/servlet/OpenAPIDetailView?keyValue=03553784&target=KUPA&cn=KOR1020167009131
첨부파일

추가정보

과학기술표준분류, ICT 기술분류, IPC분류체계CODE, 주제어 (키워드) 순으로 구성된 표입니다.
과학기술표준분류
ICT 기술분류
IPC분류체계CODE
주제어 (키워드)