기판 처리 장치 및 기판 처리 방법
기관명 | NDSL |
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출원인 | 가부시키가이샤 스크린 홀딩스 |
출원번호 | 10-2018-7027932 |
출원일자 | 2018-09-27 |
공개번호 | 20181011 |
공개일자 | 0000-00-00 |
등록번호 | |
등록일자 | 0000-00-00 |
권리구분 | KUPA |
초록 | 기판 처리 장치 (1) 는, 상부 개구 (222) 를 갖는 챔버 본체 (22) 와, 하부 개구 (232) 를 갖는 챔버 덮개부 (23) 와, 챔버 덮개부의 덮개 내부 공간 (231) 에 배치되는 차폐판 (51) 을 구비한다. 챔버 본체의 상부 개구가 챔버 덮개부에 의해 덮임으로써, 챔버 (21) 가 형성된다. 덮개 내부 공간에는, 기판 (9) 을 향하여 처리액을 토출하는 스캔 노즐 (186) 이 토출부로서 배치된다. 헤드 회전 기구 (863) 는, 하부 개구의 상방의 토출 위치와 하부 개구에 대하여 직경 방향으로 떨어진 대기 위치에 토출부를 선택적으로 배치한다. 덮개 내부 공간에서는, 불활성 가스의 공급 및 내부의 가스의 배출이 실시된다. 기판으로의 처리액의 공급시에 토출부가 토출 위치에 배치되고, 기판으로의 처리액의 비공급의 기간에 있어서의 토출부의 건조시에 토출부가 대기 위치에 배치되고, 차폐판에 의해 하부 개구가 폐색된다. 그 결과, 토출부를 효율적으로 건조시킬 수 있다. |
원문URL | http://click.ndsl.kr/servlet/OpenAPIDetailView?keyValue=03553784&target=KUPA&cn=KOR1020187027932 |
첨부파일 |
과학기술표준분류 | |
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ICT 기술분류 | |
IPC분류체계CODE | H01L-021/67,H01L-021/02,H01L-021/687 |
주제어 (키워드) |