| 초록 |
여기서의 기술은 다양한 기판 속성을 튜닝하기 위해 기판 상에 광의 공간 제어된 프로젝션(spatially-controlled projection) 또는 픽셀 기반 프로젝션을 제공하는 시스템 및 방법을 포함한다.기판 표면 상에 프로젝팅된 정해진 픽셀 기반 이미지는 기판 시그니처에 기초할 수 있다.기판 시그니처는 기판의 표면에 걸친 비균일성을 공간적으로 나타낼 수 있다.이러한 비균일성은 에너지, 열, 임계 치수, 포토리소그래픽 노출량 등을 포함할 수 있다.임계 치수, 가열 균일성, 증발 냉각, 감광성 에이전트의 생성의 튜닝을 포함하는 다수의 기판의 속성을 튜닝하기 위해 이러한 픽셀 기반 광 프로젝션이 사용될 수 있다.이러한 픽셀 기반 광 프로젝션을 포토리소그래픽 패터닝 프로세스 및/또는 가열 프로세스와 결합하는 것은 프로세싱 균일성을 향상시키고 결함을 감소시킨다.실시형태는 DLP(digital light processing) 칩, GLV(grating light valve), 또는 다른 그리드 기반 마이크로 프로젝션 기술을 사용하는 것을 포함할 수 있다. |
