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하전 입자빔 묘화 장치 및 하전 입자빔 묘화 방법

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기관명	NDSL
출원인	가부시키가이샤 뉴플레어 테크놀로지
출원번호	10-2015-0092877
출원일자	2015-06-30
공개번호	20160114
공개일자	0000-00-00
등록번호
등록일자	0000-00-00
권리구분	KUPA
초록	본 발명의 일태양의 하전 입자빔 묘화 장치는, 시료의 묘화 대상 영역의 묘화 데이터를 기억하는 기억부와, 묘화 데이터를 판독하고, 묘화 대상 영역을, 패턴이 배치된 제1 영역에 적어도 중복되는 적어도 1 개의 제1 데이터 처리 영역과, 제1 영역에는 중복되지 않고, 패턴이 배치되어 있지 않은 제2 영역에 중복되는 제2 데이터 처리 영역으로 분할하는 분할부와, 소정의 데이터 처리 내용에 대하여, 제2 데이터 처리 영역에 있어서의 데이터 처리를 행하지 않고, 적어도 1 개의 제1 데이터 처리 영역에 있어서의 데이터 처리를 행하는 데이터 처리부와, 데이터 처리된 데이터에 기초하여 시료에 패턴을 묘화하는 묘화부를 구비한 것을 특징으로 한다.
원문URL	http://click.ndsl.kr/servlet/OpenAPIDetailView?keyValue=03553784&target=KUPA&cn=KOR1020150092877
첨부파일

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