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스퍼터링 박막형성장치

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기관명	NDSL
출원인	가부시키가이샤 이엠디
출원번호	10-2016-7017826
출원일자	2016-07-01
공개번호	20160728
공개일자	0000-00-00
등록번호
등록일자	0000-00-00
권리구분	KUPA
초록	본 발명은, 빠른 속도로 스퍼터 처리를 행할 수 있는 스퍼터링 박막(薄膜) 형성장치를 제공하는 것을 목적으로 하고 있다. 스퍼터링 박막형성장치(10)는, 진공용기(11)와, 진공용기(11) 속에 설치된 타깃 홀더(13)와, 타깃 홀더(13)에 대향하여 설치된 기판 홀더(14)와, 타깃 홀더(13)와 기판 홀더(14) 사이에 전압을 인가하는 전원(15)과, 타깃 홀더(13)의 배면에 설치된, 타깃(T)에 평행인 성분을 가지는 자계를 생성하는 마그네트론 스퍼터링용 자석(12)과, 마그네트론 스퍼터링용 자석(12)에 의하여 생성되는 소정의 강도 이상의 자계가 존재하는 타깃(T) 근방의 영역에 고주파 유도결합 플라즈마를 생성하는 고주파 안테나(16)를 구비한다. 고주파 안테나(16)에서 생성되는 고주파 유도결합 플라즈마에 의하여, 상기 자계 속으로의 전자의 공급이 촉진되기 때문에, 빠른 속도로 스퍼터 처리를 행할 수 있다.
원문URL	http://click.ndsl.kr/servlet/OpenAPIDetailView?keyValue=03553784&target=KUPA&cn=KOR1020167017826
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