| 초록 |
본 발명은, 유해가스 처리설비에 관한 것으로, 마이크로웨이브를 생성하는 하나 또는 복수 개의 마이크로웨이브 발생유닛; 상기 마이크로웨이브 발생유닛에서 생성된 상기 마이크로웨이브가 공급되는 도파로가 형성된 복수 개의 웨이브 가이드들; 상기 공정챔버로부터 배출되는 상기 유해가스가 유동되는 제1 배관과, 상기 진공펌프를 향해 상기 유해가스가 유동되는 제2 배관 사이에 설치되며, 외측에 상기 웨이브 가이드들이 상기 유해가스의 유동 방향을 따라 설정 간격 이격되며 연결되어 있어 내부에는 상기 유해가스 내 유해물질을 분해할 수 있도록 상기 각 웨이브 가이드로부터 상기 마이크로웨이브가 유입되면, 유입된 상기 마이크로웨이브가 내부에서 반사되면서 상기 마이크로웨이브에 의하여 플라즈마 방전이 발생되는 복수 개의 플라즈마 방전영역이 형성된 플라즈마 방전챔버; 및 상기 플라즈마 방전챔버 내부에 배치되되, 상기 복수 개의 플라즈마 방전영역이 이격된 길이보다 더 길게 형성되어 상기 복수 개의 플라즈마 방전영역을 동시에 커버하고, 상기 공정챔버로부터 유입되는 상기 유해가스의 전체 또는 일부가 유동하도록 중공의 튜브 형상으로 형성되어 상기 플라즈마 방전을 위한 이온 또는 전자가 상기 플라즈마 방전챔버와 접촉되어 외부로 누설되는 것을 방지하는 차폐부재를 포함한다. |
