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임프린트 리소그래피 주형 및 제로-갭 임프린팅 방법

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기관명	NDSL
출원인	캐논 나노테크놀로지즈 인코퍼레이티드
출원번호	10-2016-7018322
출원일자	2016-07-07
공개번호	20160818
공개일자	0000-00-00
등록번호
등록일자	0000-00-00
권리구분	KUPA
초록	인접한 필드 사이에 제로-갭 임프린팅을 달성하는 선두 및 말단 엣지 경계를 가진 임프린트 리소그래피 주형이 제공되며, 이로써 이러한 필드들 사이에 위치된 패턴 배제 구역(PEZ)에 전-특징부 높이 특징부가 제공된다.선두 엣지 경계는 더미 특징부, 예를 들어 메사 엣지에 평행하게 방향성 있게 배향된 신장된 특징부를 포함하고, 말단 엣지 경계는 메사 엣지까지 연장한 홈을 포함한다.스텝-앤드-리피트 공정에 사용되었을 때 말단 엣지 경계는 주형의 선두 엣지 경계에 의해서 이미 패턴화된 인접한 임프린트된 필드의 엣지 부분과 겹치며, 이로써 이러한 필드들 사이의 패턴 배제 구역에 전-특징부 높이 특징부를 생성하고, 에칭 공정 및 CMP와 같은 하류 공정의 비-균일성을 초래하는 이러한 필드들 사이의 갭이나 개방된 영역을 피하게 된다.
원문URL	http://click.ndsl.kr/servlet/OpenAPIDetailView?keyValue=03553784&target=KUPA&cn=KOR1020167018322
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