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특허/실용신안

금속 산화물막의 제조 방법, 금속 산화물막, 박막 트랜지스터, 표시 장치, 이미지 센서 및 X선 센서

특허 실용신안 개요

기관명, 출원인, 출원번호, 출원일자, 공개번호, 공개일자, 등록번호, 등록일자, 권리구분, 초록, 원본url, 첨부파일 순으로 구성된 표입니다.
기관명 NDSL
출원인 후지필름 가부시키가이샤
출원번호 10-2016-7012845
출원일자 2016-05-16
공개번호 20160623
공개일자 0000-00-00
등록번호
등록일자 0000-00-00
권리구분 KUPA
초록 본 발명은, 금속 질산염을 포함하는 용액을 기판 상에 도포하고, 도포막을 건조시켜 금속 산화물 전구체막을 형성하는 공정과, 상기 금속 산화물 전구체막을 금속 산화물막으로 전화하는 공정을 교대로 2회 이상 반복하는 것을 포함하며, 상기 금속 산화물 전구체막을 상기 금속 산화물막으로 전화하는 적어도 2회의 공정에 있어서, 상기 기판의 최고 도달 온도를 120℃ 이상 250℃ 이하로 하여 상기 금속 산화물 전구체막을 상기 금속 산화물막으로 전화하는 금속 산화물막의 제조 방법 및 그것에 의하여 제조된 금속 산화물막 및 그것을 구비한 디바이스를 제공한다.
원문URL http://click.ndsl.kr/servlet/OpenAPIDetailView?keyValue=03553784&target=KUPA&cn=KOR1020167012845
첨부파일

추가정보

과학기술표준분류, ICT 기술분류, IPC분류체계CODE, 주제어 (키워드) 순으로 구성된 표입니다.
과학기술표준분류
ICT 기술분류
IPC분류체계CODE H01L-021/02,H01L-027/12,H01L-027/146,H01L-027/32,H01L-029/66,H01L-029/786
주제어 (키워드)