기업조회

본문 바로가기 주메뉴 바로가기

특허/실용신안

나노시트형 그래핀 산화물 코팅 여과매질 및 이의 제조방법

특허 실용신안 개요

기관명, 출원인, 출원번호, 출원일자, 공개번호, 공개일자, 등록번호, 등록일자, 권리구분, 초록, 원본url, 첨부파일 순으로 구성된 표입니다.
기관명 NDSL
출원인 포항공과대학교 산학협력단
출원번호 10-2015-0024491
출원일자 2015-02-17
공개번호 20160901
공개일자 0000-00-00
등록번호
등록일자 0000-00-00
권리구분 KUPA
초록 본 발명은, 제조 공정이 단순하고, 제조 시간이 단축되고, 독성 중금속 이온 및 방사성 동위원소 이온을 연속적으로 여과 제거 처리할 수 있는 나노시트형 그래핀 산화물 코팅 여과매질 및 이의 제조방법을 제공한다.
원문URL http://click.ndsl.kr/servlet/OpenAPIDetailView?keyValue=03553784&target=KUPA&cn=KOR1020150024491
첨부파일

추가정보

과학기술표준분류, ICT 기술분류, IPC분류체계CODE, 주제어 (키워드) 순으로 구성된 표입니다.
과학기술표준분류
ICT 기술분류
IPC분류체계CODE
주제어 (키워드)