고점도 순키토산 방사액의 복합 거품 제거 방법
기관명 | NDSL |
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출원인 | 히스머 바이오-테크놀로지 컴퍼니, 리미티드 |
출원번호 | 10-2016-7008786 |
출원일자 | 2016-04-01 |
공개번호 | 20160512 |
공개일자 | 0000-00-00 |
등록번호 | |
등록일자 | 0000-00-00 |
권리구분 | KUPA |
초록 | 본 발명은 고점도 순키토산 방사액의 복합 거품 제거 방법에 관한 것이며, 아래와 같은 단계를 포함한다. 1. 방사액은 용해베슬을 통과하면서 충분히 용해되고 그 점도는 450000mpaㆍs ~ 500000mpaㆍs에 도달하여 사용대기한다. 2. 단계 1에서 사용대기하는 방사액을 용해베슬에서 압축공기를 동력으로 여과하여 거품 제거 베슬(1)의 투입구(3)에 수송한다. 3. 거품 제거 베슬(1)에서 거품 제거 베슬(1) 내 압력을 500pa ~ 3000pa를 유지하는 전제하에 분리, 박막 긁기, 상승, 절단을 포함한 복합 거품 제거 방법으로 연속처리를 진행한다. 4. 샘플채집구(18)에서 샘플링하여 거품 제거 정도 검측을 실시하여, 합격 시 거품 제거 과정을 종료하고, 불합격 시 합격될 때까지 단계 3을 반복하여 거품 제거 과정을 완성한다. |
원문URL | http://click.ndsl.kr/servlet/OpenAPIDetailView?keyValue=03553784&target=KUPA&cn=KOR1020167008786 |
첨부파일 |
과학기술표준분류 | |
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ICT 기술분류 | |
IPC분류체계CODE | B01D-019/02,B01D-019/00,B01F-007/22,D01D-001/06,D01D-001/10,D01F-009/00 |
주제어 (키워드) |