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다층 레지스트 프로세스용 무기 막 형성 조성물 및 패턴 형성 방법

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기관명	NDSL
출원인	제이에스알 가부시끼가이샤
출원번호	10-2016-7006139
출원일자	2016-03-08
공개번호	20160519
공개일자	0000-00-00
등록번호
등록일자	0000-00-00
권리구분	KUPA
초록	본 발명은 티타늄, 탄탈, 지르코늄 및 텅스텐으로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1종의 복수의 금속 원자와, 상기 복수의 금속 원자 사이를 가교하는 산소 원자와, 상기 금속 원자에 배위하는 다좌 배위자를 포함하는 금속 화합물, 및 용매를 함유하고, 상기 금속 화합물의 정적 광 산란법에 의해 측정되는 절대 분자량이 8,000 이상 50,000 이하인 다층 레지스트 프로세스용 무기 막 형성 조성물이다.상기 금속 화합물은, 금속 원자에 2개의 가교 산소 원자가 결합하고 있는 구조를 주로 포함하는 것이 바람직하다.
원문URL	http://click.ndsl.kr/servlet/OpenAPIDetailView?keyValue=03553784&target=KUPA&cn=KOR1020167006139
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