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특허/실용신안

디플리션 빔을 이용한 서브-미크론 피쳐 형성을 위한 반응물의 포토닉 활성화

특허 실용신안 개요

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기관명 NDSL
출원인 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드
출원번호 10-2016-7006203
출원일자 2016-03-08
공개번호 20160422
공개일자 0000-00-00
등록번호
등록일자 0000-00-00
권리구분 KUPA
초록 미세 피쳐 형성 방법 및 장치는 STED 디플리션 레이저 빔의 직경 또는 단면보다 작은 영역 내에서의 광자 유도된 퇴적, 에칭, 및 열 또는 광자 기반 처리를 제공한다.적어도 2개의 STED 디플리션 빔은 기판 상의 반응 위치에 지향되며, 거기에서 빔들의 여기 부분보다 작은 면적을 갖는 빔 중첩 영역이 형성된다.반응 영역에 도입되는 반응물 또는 반응물들은 2개의 빔의 여기 부분들의 결합된 에너지에 의해 여기되지만, 빔들의 2개의 여기 부분의 중첩 영역 외부에서는 여기되지 않는다.반응물은 중첩 영역 내에서만 발생하게 된다.중첩 영역은 작은 면적에서 기판 피쳐들의 형성 또는 기판에서의 변화를 가능하게 하기 위해 20nm 미만의 너비이며 1nm 미만의 폭일 수 있다.
원문URL http://click.ndsl.kr/servlet/OpenAPIDetailView?keyValue=03553784&target=KUPA&cn=KOR1020167006203
첨부파일

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