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특허/실용신안

산화물 반도체 박막, 및 상기 산화물 반도체 박막의 표면에 보호막을 갖는 적층체의 품질 평가 방법, 및 산화물 반도체 박막의 품질 관리 방법

특허 실용신안 개요

기관명, 출원인, 출원번호, 출원일자, 공개번호, 공개일자, 등록번호, 등록일자, 권리구분, 초록, 원본url, 첨부파일 순으로 구성된 표입니다.
기관명 NDSL
출원인 가부시키가이샤 고베 세이코쇼
출원번호 10-2017-7000804
출원일자 2017-01-11
공개번호 20170216
공개일자 0000-00-00
등록번호
등록일자 0000-00-00
권리구분 KUPA
초록 산화물 반도체 박막 및 상기 산화물 반도체 박막의 표면에 보호막을 갖는 적층체의 품질, 및 산화물 반도체 박막의 품질 관리 방법을 정확하고, 또한 간편하게 평가할 수 있는 방법을 제공한다.본 발명은 산화물 반도체 박막 및 상기 산화물 반도체 박막의 표면에 보호막을 갖는 적층체의 품질 평가 방법으로서, 산화물 반도체 박막을 기판에 형성한 후, 상기 산화물 반도체 박막의 전자 상태를 접촉식 방법 또는 비접촉식 방법에 의해 측정함으로써, 상기 산화물 반도체 박막의 막 내 결함에 기인하는 불량을 평가하는 제1 스텝과, 상기 평가에 기초하여 결정된 조건에 의해 처리된 산화물 반도체 박막의 표면에, 보호막을 형성한 후, 접촉식 방법 또는 비접촉식 방법에 의해 상기 산화물 반도체 박막의 전자 상태를 측정함으로써, 상기 산화물 반도체 박막과 상기 보호막과의 계면 결함에 기인하는 불량을 평가하는 제2 스텝을 갖는다.
원문URL http://click.ndsl.kr/servlet/OpenAPIDetailView?keyValue=03553784&target=KUPA&cn=KOR1020177000804
첨부파일

추가정보

과학기술표준분류, ICT 기술분류, IPC분류체계CODE, 주제어 (키워드) 순으로 구성된 표입니다.
과학기술표준분류
ICT 기술분류
IPC분류체계CODE H01L-021/66,H01L-029/786
주제어 (키워드)