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특허/실용신안

스퍼터링 타깃 및 그 제조 방법

특허 실용신안 개요

기관명, 출원인, 출원번호, 출원일자, 공개번호, 공개일자, 등록번호, 등록일자, 권리구분, 초록, 원본url, 첨부파일 순으로 구성된 표입니다.
기관명 NDSL
출원인 제이엑스금속주식회사
출원번호 10-2016-7012430
출원일자 2016-05-11
공개번호 20160603
공개일자 0000-00-00
등록번호
등록일자 0000-00-00
권리구분 KUPA
초록 Al 의 함유량이 Al 2 O 3 환산으로 0.2 ∼ 3.0 ㏖%, Mg 및/또는 Si 의 함유량이 MgO 및/또는 SiO 2 환산으로 1 ∼ 27 ㏖%, 잔부가 Zn 의 ZnO 환산의 함유량으로 이루어지는 기본 조성에 대해, 추가로 융점이 1000 ℃ 이하인 저융점 산화물을 형성하는 금속을 산화물 중량 환산으로 0.1 ∼ 20 wt% 함유하는 것을 특징으로 하는 스퍼터링 타깃. 황을 함유하지 않고, 벌크 저항이 낮아 DC 스퍼터링이 가능하고, 저굴절률의 광학 박막 형성용 타깃 및 그 제조 방법을 제공한다. 타깃 자체가 고밀도이기 때문에, 이상 방전이 적어, 안정적인 스퍼터링이 가능하다. 또한 스퍼터 성막한 박막은, 투과율이 높고, 비황화물계로 구성되어 있기 때문에, 인접하는 반사층, 기록층의 열화가 잘 발생하지 않는 광정보 기록 매체용 박막의 형성에 유용하다. 광정보 기록 매체의 특성의 향상, 설비 비용의 저감화, 성막 속도의 향상에 의한 스루풋을 대폭 개선한다.
원문URL http://click.ndsl.kr/servlet/OpenAPIDetailView?keyValue=03553784&target=KUPA&cn=KOR1020167012430
첨부파일

추가정보

과학기술표준분류, ICT 기술분류, IPC분류체계CODE, 주제어 (키워드) 순으로 구성된 표입니다.
과학기술표준분류
ICT 기술분류
IPC분류체계CODE C23C-014/34,C04B-035/453,C04B-035/645,C23C-014/08
주제어 (키워드)