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특허/실용신안

패턴 형성 방법, 에칭 방법, 전자 디바이스의 제조 방법, 및 전자 디바이스

특허 실용신안 개요

기관명, 출원인, 출원번호, 출원일자, 공개번호, 공개일자, 등록번호, 등록일자, 권리구분, 초록, 원본url, 첨부파일 순으로 구성된 표입니다.
기관명 NDSL
출원인 후지필름 가부시키가이샤
출원번호 10-2016-7021234
출원일자 2016-08-03
공개번호 20160825
공개일자 0000-00-00
등록번호
등록일자 0000-00-00
권리구분 KUPA
초록 패턴 형성 방법은, (i) 기판 상에, 하기 공정 (i-1), 하기 공정 (i-2) 및 하기 공정 (i-3)을 이 순서로 행하여, 제1 네거티브형 패턴을 형성하는 공정, (i-1) 기판 상에, 산의 작용에 의하여 극성이 증대되어 유기 용제를 포함하는 현상액에 대한 용해성이 감소하는 수지를 함유하는 감활성광선성 또는 감방사선성 수지 조성물 (1)을 이용하여 제1 막을 형성하는 공정 (i-2) 제1 막을 노광하는 공정 (i-3) 노광한 제1 막을, 유기 용제를 포함하는 현상액을 이용하여 현상하여, 제1 네거티브형 패턴을 형성하는 공정 (iii) 적어도 제1 네거티브형 패턴 상에, 산의 작용에 의하여 극성이 증대되어 유기 용제를 포함하는 현상액에 대한 용해성이 감소하는 수지를 함유하는 감활성광선성 또는 감방사선성 수지 조성물 (2)를 이용하여 제2 막을 형성하는 공정, (v) 제2 막을 노광하는 공정, 및 (vi) 노광한 제2 막을, 유기 용제를 포함하는 현상액을 이용하여 현상하여, 적어도 제1 네거티브형 패턴 상에 제2 네거티브형 패턴을 형성하는 공정 을 갖는다.
원문URL http://click.ndsl.kr/servlet/OpenAPIDetailView?keyValue=03553784&target=KUPA&cn=KOR1020167021234
첨부파일

추가정보

과학기술표준분류, ICT 기술분류, IPC분류체계CODE, 주제어 (키워드) 순으로 구성된 표입니다.
과학기술표준분류
ICT 기술분류
IPC분류체계CODE G03F-007/00,G03F-007/038,G03F-007/32,H01L-021/027,H01L-021/311
주제어 (키워드)