| 기업공감원스톱서비스

원자층 증착에서 불활성 기체 플라즈마를 이용한 기판 표면의 처리

기관명, 출원인, 출원번호, 출원일자, 공개번호, 공개일자, 등록번호, 등록일자, 권리구분, 초록, 원본url, 첨부파일 순으로 구성된 표입니다.
기관명	NDSL
출원인	비코 에이엘디 인코포레이티드
출원번호	10-2016-7014672
출원일자	2016-06-01
공개번호	20160616
공개일자	0000-00-00
등록번호
등록일자	0000-00-00
권리구분	KUPA
초록	원자층 증착(atomic layer deposition; ALD)을 이용하여 기판상에 하나 이상의 물질 층을 증착하되, 기판이 추가적인 층 증착을 거치기 전에 기판의 표면이 불활성 기체의 라디칼(radical)에 의하여 처리된다. 불활성 기체의 라디칼에 의하여 증착된 층의 표면 상태가 후속하는 원료전구체(source precursor) 분자와 흡착하기 더 쉬운 상태로 바뀌는 것으로 확인된다. 불활성 기체의 라디칼은 기판의 표면상의 분자들의 결합을 끊고, 표면상의 분자들이 불포화 결합(dangling bond)을 갖게 한다. 불포화 결합은 이어서 표면에 주입된 원료전구체 분자들의 흡착을 용이하게 한다. 따라서, 불활성 기체의 라디칼에 노출시킴으로써, 증착율이 증가되고 증착된 층의 특성이 향상된다.
원문URL	http://click.ndsl.kr/servlet/OpenAPIDetailView?keyValue=03553784&target=KUPA&cn=KOR1020167014672
첨부파일

기업조회