기업조회

본문 바로가기 주메뉴 바로가기

특허/실용신안

산화물 박막 형성용 용액 조성물 및 상기 산화물 박막을 포함하는 전자 소자

특허 실용신안 개요

기관명, 출원인, 출원번호, 출원일자, 공개번호, 공개일자, 등록번호, 등록일자, 권리구분, 초록, 원본url, 첨부파일 순으로 구성된 표입니다.
기관명 NDSL
출원인 ,
출원번호 10-2016-0093408
출원일자 2016-07-22
공개번호 20160808
공개일자 0000-00-00
등록번호
등록일자 0000-00-00
권리구분 KUPA
초록 아연을 함유하는 제1 화합물, 인듐을 함유하는 제2 화합물 및 마그네슘을 함유하는 제3 화합물을 포함하는 산화물 박막 형성용 용액 조성물과 상기 용액 조성물로부터 형성되며 아연, 인듐 및 마그네슘을 포함하는 산화물 반도체를 포함하는 전기 소자를 제공한다.또한 아연을 함유하는 제1 화합물, 인듐을 함유하는 제2 화합물 및 하프늄을 함유하는 제3 화합물을 포함하고, 상기 아연과 상기 하프늄의 원자수 비율이 1:0.01 내지 1:1인 산화물 박막 형성용 용액 조성물 또한 제공한다.
원문URL http://click.ndsl.kr/servlet/OpenAPIDetailView?keyValue=03553784&target=KUPA&cn=KOR1020160093408
첨부파일

추가정보

과학기술표준분류, ICT 기술분류, IPC분류체계CODE, 주제어 (키워드) 순으로 구성된 표입니다.
과학기술표준분류
ICT 기술분류
IPC분류체계CODE H01B-001/08,H01L-021/02,H01L-027/12,H01L-029/26,H01L-029/786
주제어 (키워드)