기업조회

본문 바로가기 주메뉴 바로가기

특허/실용신안

멀티-패터닝 애플리케이션들을 위한 광학적으로 튜닝된 하드마스크

특허 실용신안 개요

기관명, 출원인, 출원번호, 출원일자, 공개번호, 공개일자, 등록번호, 등록일자, 권리구분, 초록, 원본url, 첨부파일 순으로 구성된 표입니다.
기관명 NDSL
출원인 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드
출원번호 10-2015-7034419
출원일자 2015-12-02
공개번호 20160114
공개일자 0000-00-00
등록번호
등록일자 0000-00-00
권리구분 KUPA
초록 본원에서의 실시예들은, 노광 파장에서, 포토-레지스트들에 대해 실질적으로 매칭된 광학 특성들을 갖는 하드마스크로서 생성되는, 이전에 SiO x N y C z :H w 라고 지칭된 화합물들 내로의 수소의 제어되는 도핑을 포함하는 변형을 포함하여, PVD 실리콘 산화물 또는 실리콘 풍부 산화물, 또는 PVD SiN 또는 실리콘 풍부 SiN, 또는 SiC 또는 실리콘 풍부 SiC, 또는 선행하는 것들의 조합을 형성하기 위한 방법들을 제공하며, 여기에서, w, x, y, 및 z는, 0 % 내지 100 %로 농도가 변화될 수 있다.따라서, 포토-레지스트에 대하여 광학적으로 평탄화된 하드마스크가 제조된다.이는, 포토-레지스트가 본질적으로, 광학 토포그래피 또는 반사율 변동들 없이 유지되면서, 하드마스크에서의 리소그래피 및 에칭들의 다수의 시퀀스들을 허용한다.
원문URL http://click.ndsl.kr/servlet/OpenAPIDetailView?keyValue=03553784&target=KUPA&cn=KOR1020157034419
첨부파일

추가정보

과학기술표준분류, ICT 기술분류, IPC분류체계CODE, 주제어 (키워드) 순으로 구성된 표입니다.
과학기술표준분류
ICT 기술분류
IPC분류체계CODE H01L-021/033,C23C-014/00,C23C-014/06,H01L-021/02,H01L-021/027,H01L-021/3105,H01L-021/311
주제어 (키워드)