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특허/실용신안

스패터링 장치, 스패터링 방법 및 포토마스크 블랭크

특허 실용신안 개요

기관명, 출원인, 출원번호, 출원일자, 공개번호, 공개일자, 등록번호, 등록일자, 권리구분, 초록, 원본url, 첨부파일 순으로 구성된 표입니다.
기관명 NDSL
출원인 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤
출원번호 10-2015-0170877
출원일자 2015-12-02
공개번호 20160616
공개일자 0000-00-00
등록번호
등록일자 0000-00-00
권리구분 KUPA
초록 챔버와, 스패터 타겟과, 챔버 내벽을 따라서 마련된 실드를 구비하고, 실드 내부의 스패터 공간에 스패터 타겟과 기판을 배치하고, 기판에 박막을 형성하는 스패터링 장치를 이용하여, 챔버와 기판을 오프셋 위치에 배치하고, 스패터 타겟의 스패터면의 중심을 통과하는 연직 평면이며, 또한 기판의 피 스패터면의 중심을 통과하는 법선으로의 스패터면의 중심으로부터의 수선에 직교하는 가상 평면 위 및 상기 가상 평면으로부터 기판측의 범위를 기판측 영역으로 하고, 기판측 영역 내에 위치하는 측면 실드의 전부를, 그 스패터면의 중심으로부터의 거리가, 스패터면의 중심으로부터 피 스패터면의 중심을 통과하는 법선까지의 최단 거리인 오프셋 거리보다 멀어지도록 배설하여 스패터링한다.실드로의 스패터 입자의 퇴적에 의한 막의 형성을 효과적으로 방지하며, 막의 벗겨짐에 기인하는 파티클에 의한 결함을 감소시킬 수 있다.
원문URL http://click.ndsl.kr/servlet/OpenAPIDetailView?keyValue=03553784&target=KUPA&cn=KOR1020150170877
첨부파일

추가정보

과학기술표준분류, ICT 기술분류, IPC분류체계CODE, 주제어 (키워드) 순으로 구성된 표입니다.
과학기술표준분류
ICT 기술분류
IPC분류체계CODE G03F-001/66,C23C-014/34,G03F-001/50,H01L-021/02,H01L-021/033
주제어 (키워드)