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특허/실용신안

표면 미세 가공 방법 및 미세 채널 형성 방법

특허 실용신안 개요

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기관명 NDSL
출원인 한국산업기술대학교산학협력단
출원번호 10-2013-0105624
출원일자 2013-09-03
공개번호 20141121
공개일자 2014-11-18
등록번호 10-1463040-0000
등록일자 2014-11-12
권리구분 KPTN
초록 본 발명은 유리와 세라믹과 같은 경취성 재료의 표면을 미세 가공하는 방법으로서, 가공 대상 재료의 표면에 공기압으로 연마입자를 분출하는 파우더 블라스팅 공정으로 재료의 표면에 패턴을 형성하는 패턴 형성 단계; 상기 패턴이 형성된 표면에 연마입자가 섞인 물을 분출하는 워터 제트 공정으로 상기 패턴의 표면을 연마하는 1차 연마 단계; 및 상기 워터 제트 공정을 수행한 재료의 표면 전체를 래핑(lapping)공정 또는 폴리싱 공정으로 평탄화하는 2차 연마 단계를 포함한다. 본 발명은, 저렴하고 빠른 파우더 블라스팅으로 표면을 가공한 뒤에 워터 제트 공정과 화학적 기계적 연마 공정으로 가공 표면을 연마함으로써, 낮은 비용으로 뛰어난 품위의 표면 가공을 수행할 수 있는 효과가 있다. 또한, 본 발명의 미세 채널 형성 방법을 적용하는 경우, 가공면의 표면품위가 높기 때문에 미세 유체의 흐름 특성을 제어해야하는 바이오칩과 같은 미세 유체 소자의 성능을 크게 향상시킬 수 있는 효과가 있다.
원문URL http://click.ndsl.kr/servlet/OpenAPIDetailView?keyValue=03553784&target=KPTN&cn=KOR1020130105624
첨부파일

추가정보

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과학기술표준분류
ICT 기술분류
IPC분류체계CODE B24C-001/04,B24B-007/22,B24B-037/04
주제어 (키워드)