동적 전극 플라즈마 시스템
기관명 | NDSL |
---|---|
출원인 | 베리안 세미콘덕터 이큅먼트 어소시에이츠, 인크. |
출원번호 | 10-2016-7008752 |
출원일자 | 2016-04-01 |
공개번호 | 20160519 |
공개일자 | 0000-00-00 |
등록번호 | |
등록일자 | 0000-00-00 |
권리구분 | KUPA |
초록 | 기판을 프로세싱하기 위한 시스템은 그 안에 플라즈마를 생성하기 위한 플라즈마 챔버를 포함한다. 시스템은 기판을 하우징하기 위한 프로세스 챔버를 또한 포함하며, 여기에서 프로세스 챔버는 플라즈마 챔버에 인접한다. 시스템은 또한 플라즈마 챔버와 기판 사이에 배치된 회전가능 추출 전극을 포함하며, 여기에서 회전가능 추출 전극은 플라즈마로부터 이온 빔을 추출하도록 구성되고, 추출 전극 축에 대한 회전에 의해 기판의 움직임 없이 기판에 걸쳐 이온 빔을 스캐닝하도록 구성된다. |
원문URL | http://click.ndsl.kr/servlet/OpenAPIDetailView?keyValue=03553784&target=KUPA&cn=KOR1020167008752 |
첨부파일 |
과학기술표준분류 | |
---|---|
ICT 기술분류 | |
IPC분류체계CODE | |
주제어 (키워드) |