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특허/실용신안

광학 재료용 중합성 조성물, 광학 재료 및 그 제조 방법

특허 실용신안 개요

기관명, 출원인, 출원번호, 출원일자, 공개번호, 공개일자, 등록번호, 등록일자, 권리구분, 초록, 원본url, 첨부파일 순으로 구성된 표입니다.
기관명 NDSL
출원인 미쯔이가가꾸가부시끼가이샤
출원번호 10-2016-7014877
출원일자 2016-06-03
공개번호 20160714
공개일자 0000-00-00
등록번호
등록일자 0000-00-00
권리구분 KUPA
초록 본 발명의 광학 재료용 중합성 조성물은, 폴리이소시아네이트 (A)와, 폴리티올 (B)와, 하기 화학식 (1)로 표시되는 산성 인산 에스테르 (C)와, 극대 흡수 피크가 350㎚ 이상 370㎚ 이하의 범위인 1종 이상의 자외선 흡수제 (D)를 포함하여 이루어지고, 폴리이소시아네이트 (A) 중의 이소시아네이트기의 합계 몰수를 100몰%로 한 경우에 있어서, 2급 이소시아네이트기가 20몰% 이상 포함되고, 산성 인산 에스테르 (C)가, 폴리이소시아네이트 (A)와 폴리티올 (B)의 총 중량에 대하여 100 내지 700ppm의 양으로 포함된다.
원문URL http://click.ndsl.kr/servlet/OpenAPIDetailView?keyValue=03553784&target=KUPA&cn=KOR1020167014877
첨부파일

추가정보

과학기술표준분류, ICT 기술분류, IPC분류체계CODE, 주제어 (키워드) 순으로 구성된 표입니다.
과학기술표준분류
ICT 기술분류
IPC분류체계CODE G02B-001/04,C08G-018/24,C08G-018/38,C08G-018/72,C08G-018/73,C08G-018/75,C08K-005/521
주제어 (키워드)