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특허/실용신안

플라즈마 발생장치를 이용한 막증발법 수처리 시설의 온수공급장치

특허 실용신안 개요

기관명, 출원인, 출원번호, 출원일자, 공개번호, 공개일자, 등록번호, 등록일자, 권리구분, 초록, 원본url, 첨부파일 순으로 구성된 표입니다.
기관명 NDSL
출원인 금오공과대학교 산학협력단
출원번호 10-2014-0053873
출원일자 2014-05-07
공개번호 20151119
공개일자 2016-03-23
등록번호 10-1605954-0000
등록일자 2016-03-17
권리구분 KPTN
초록 본 발명은 플라즈마 발생장치를 이용한 수처리 시설의 온수공급장치에 관한 것으로, 오염수가 저장되는 저수조, 미생물의 분해작용에 의해 오염수의 부산물을 제거하는 폭기조, 오염수의 슬러지를 따로 분리하는 반응조를 순차적으로 거친 오염수의 유기물이나 오염물질을 제거하는 플라즈마 발생장치를 이용하여 오염수를 처리하는 수처리 시설의 온수공급장치에 있어서, 상기 플라즈마 발생장치는, 투명 아크릴 재질로 제작되어 플라즈마가 방전될 수 있도록 내부에 소정의 공간을 형성하는 본체; 상기 본체의 상부에는 저수조, 폭기조, 반응조 중 어느 한 곳에서 배출되는 오염수를 공급받을 수 있는 공급관; 상기 본의 하부에는 처리된 오염수를 배출하는 배출관; 상기 본체의 하부에는 처리가 미흡하게 이루어진 오염수를 다시 본체 내부로 인입시킬 수 있도록 공급관과 연계되는 연결관; 균일한 분포로 분사구가 각각 형성되어 펄스발생기로부터 펄스를 인가받아 코로나 스트리머가 형성되어 본체 내부에 전체적으로 플라즈마 막을 생성하는 다수의 전극으로 이루어지고, 상기 온수공급장치는 배출관에서 배출된 처리수를 공급받아 처리수가 70 ~ 80 온도로 유지되도록 가열하여 MD처리장치로 배출하는 히팅수단이 포함됨을 특징으로 하는 플라즈마 발생장치를 이용한 수처리 시설의 온수공급장치를 제공한다. 따라서 배출관에서 배출하는 처리수를 70 ~ 80로 가열하여 MD처리장치로 유입하는 히팅수단으로 인해 파울링에 대한 영향이 최소화되면서도 막 투과유량(Flux)이 최대로 나타나게 하여 MD처리장치의 효율성을 향상시키는 효과를 발휘한다.
원문URL http://click.ndsl.kr/servlet/OpenAPIDetailView?keyValue=03553784&target=KPTN&cn=KOR1020140053873
첨부파일

추가정보

과학기술표준분류, ICT 기술분류, IPC분류체계CODE, 주제어 (키워드) 순으로 구성된 표입니다.
과학기술표준분류
ICT 기술분류
IPC분류체계CODE C02F-001/46,C02F-001/30,H05H-001/24
주제어 (키워드)