| 초록 |
마이크로파 플라즈마 화학 기상 증착(MPCVD)을 통해 Cu 호일 상에 몇 개 층의 그래핀 막의 신속하게 합성하는 방법.이러한 박막의 신속 합성을 위해 플라즈마/금속 상호작용이 유용할 수 있다.그 방법은 추가의 기판 가열이 거의 없이 약 100 초의 성장 과정 동안 플라즈마 조건을 조절함으로써 비결정성으로부터 고결정성으로 조절가능한 품질의 막을 제조할 수 있다.막은 라만 분광분석, 주사전자 현미경 분석 및 X선 광전자 분광분석을 이용하여 특성을 규명했다. 그 결과는 Cu 호일 상에의 탄소 박막의 MPCVD 증착에 포함되는 단계들을 확인하는데 도움이 된다.다른 실시예에서, 그 막은 반응기에서 질소 가스의 도입을 통해 합성 동안 도핑된다.라만 분광분석, X선 광전자 분광분석, 투과 전자 현미경 분석 및 주사 터널링 현미경 분석은 결정 구조 및 화학적 특징을 확인시켜준다.약 2 원자% 이하의 질소 농도가 관찰된다.그 성장 과정은 추가의 기판 가열이 없이 단지 몇 분만을 필요로 하고 질소가 도핑된 그래핀 막의 대규모 합성을 위한 유망한 경로를 제공한다. |
