| 초록 |
본 발명은 기상식각 및 세정을 위한 플라즈마 장치에 관한 것이다. 본 발명의 기상식각 및 세정을 위한 플라즈마 장치는 피처리 기판을 처리하기 위한 반응기 몸체와, 공정 가스가 유입되고 플라즈마가 직접 유도되어 공정 가스를 해리하는 반응기 몸체 내의 직접 플라즈마 발생 영역과, 직접 플라즈마 발생 영역으로부터 유입된 해리된 공정 가스와 반응기 몸체의 외부에서 유입된 기화 가스가 반응한 반응종에 의해 피처리 기판이 처리되는 반응기 몸체 내의 기판 처리 영역과, 직접 플라즈마 발생 영역에 플라즈마를 유도하는 플라즈마 유도 어셈블리 및 직접 플라즈마 발생 영역과 기판 처리 영역 사이에 구비되고, 직접 플라즈마 발생 영역에서 기판 처리 영역으로 해리된 공정가스가 유입될 수 있도록 관통된 복수 개의 관통홀을 갖는 가스 분배 배플을 포함한다. 본 발명의 기상식각 및 세정을 위한 플라즈마 장치는 대전에 의한 손상이 없이 피처리 기판을 세정할 수 있다. 또한 피처리 기판 세정시 부산물이 발생되하지 않으며 선택비가 높은 장점이 있다. 또한 기상세정을 위한 기화가스를 균일하게 피처리 기판으로 제공함으로써 피처리 기판의 표면을 균일하게 세정할 수 있다. 기화가스를 분사하는 가스 분배 배플에 구비된 히터를 이용하여 기화가스의 온도를 조절할 수 있다. 또한 대전에 의한 손상이 없어 미세 패턴 가공 공정에서도 피처리 기판의 세정이 가능하다. |
