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전자빔 또는 EUV선을 사용한 유기용제 현상 또는 다중현상 패턴형성방법

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기관명	NDSL
출원인	후지필름 가부시키가이샤
출원번호	10-2016-7018817
출원일자	2016-07-13
공개번호	20160728
공개일자	0000-00-00
등록번호
등록일자	0000-00-00
권리구분	KUPA
초록	(1) 산분해성 반복단위를 함유하고 산의 작용에 의해 유기용제에서 용해도를 감소시킬 수 있는 수지를 포함하는 감활성광선성 또는 감방사선성 수지 조성물로 막을 형성하는 공정; (2) 전자빔 또는 EUV선으로 상기 막을 노광하는 공정; 및 (4) 유기용제를 함유하는 현상액으로 상기 막을 현상하는 공정을 순서대로 포함하는 패턴형성방법을 제공한다.
원문URL	http://click.ndsl.kr/servlet/OpenAPIDetailView?keyValue=03553784&target=KUPA&cn=KOR1020167018817
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