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특허/실용신안

반도체 장치 및 그 제작 방법

특허 실용신안 개요

기관명, 출원인, 출원번호, 출원일자, 공개번호, 공개일자, 등록번호, 등록일자, 권리구분, 초록, 원본url, 첨부파일 순으로 구성된 표입니다.
기관명 NDSL
출원인 가부시키가이샤 한도오따이 에네루기 켄큐쇼
출원번호 10-2016-0089231
출원일자 2016-07-14
공개번호 20160728
공개일자 0000-00-00
등록번호
등록일자 0000-00-00
권리구분 KUPA
초록 보텀 게이트형의 박막 트랜지스터에 있어서, 소스 전극과 드레인 전극의 사이에 생길 우려가 있는 전계 집중을 완화하여, 스위칭 특성의 열화를 억제하는 구조 및 그 제작 방법을 제공한다. 소스 전극 및 드레인 전극 위에 산화물 반도체층을 갖는 보텀 게이트형의 박막 트랜지스터로 하고, 산화물 반도체층과 접하는 소스 전극의 측면의 각도 θ1 및 드레인 전극의 측면의 각도 θ2를 20° 이상 90° 미만으로 함으로써, 소스 전극 및 드레인 전극의 측면에 있어서의 전극 상단으로부터 전극 하단까지의 거리를 크게 한다.
원문URL http://click.ndsl.kr/servlet/OpenAPIDetailView?keyValue=03553784&target=KUPA&cn=KOR1020160089231
첨부파일

추가정보

과학기술표준분류, ICT 기술분류, IPC분류체계CODE, 주제어 (키워드) 순으로 구성된 표입니다.
과학기술표준분류
ICT 기술분류
IPC분류체계CODE H01L-029/417,H01L-021/02,H01L-027/12,H01L-029/786
주제어 (키워드)