이온 주입 균일성을 제어하기 위한 장치 및 기술들
기관명 | NDSL |
---|---|
출원인 | 베리안 세미콘덕터 이큅먼트 어소시에이츠, 인크. |
출원번호 | 10-2015-7034315 |
출원일자 | 2015-12-01 |
공개번호 | 20160114 |
공개일자 | 0000-00-00 |
등록번호 | |
등록일자 | 0000-00-00 |
권리구분 | KUPA |
초록 | 이온 주입기내 이온 빔을 제어하는 시스템은 이온 빔의 전파 방향에 수직인 제 1 방향을 따라서 이온 빔의 복수개의 빔 전류 측정을 수행하는 검출기를 포함한다. 시스템은 또한 복수개의 빔 전류 측정에 기초하여 빔 전류 프로파일을 결정하는 분석 컴포넌트, 빔 전류 프로파일은 제 1 방향을 따라서 빔 전류 변화를 포함하고; 및 빔 높이가 임계값 아래인 것을 빔 전류 프로파일이 나타낼 때 제 1 방향을 따라서 이온 빔의 높이를 조정하는 조정 컴포넌트를 포함한다. |
원문URL | http://click.ndsl.kr/servlet/OpenAPIDetailView?keyValue=03553784&target=KUPA&cn=KOR1020157034315 |
첨부파일 |
과학기술표준분류 | |
---|---|
ICT 기술분류 | |
IPC분류체계CODE | H01J-037/304,C23C-014/48,C23C-014/54,G21K-005/00,H01J-037/317 |
주제어 (키워드) |