| 초록 |
본 발명이 다루는 문제점은 가능한 높은 증점 수준에 의해 특정되고, 이에 따라 유동학 조절 목적을 위한 첨가제로서 특정 작용하도록 사용될 수 있는 산화금속을 제공하기 위한 것이다. 이러한 문제점은 1-24개의 C 원자를 포함하는 일반식 RSiO 3/2 의 T 기에 의해 개질되고, T 기의 낮은 정도의 가교결합에 의해 특정되고, 이는 총합(T1+T2+T3)에 대해 개질된 산화금속의 표면 상의 T1 기의 비율이 15 이상이고 또는 T1 기의 비율이 개질된 산화금속의 표면 상의 T3 기의 비율보다 크기 때문이고, 여기서 용매로 추출가능한 개질된 산화금속의 비율은 15 중량% 이하이다. 또한, 높은 비율의 T1 기를 갖는 산화금속의 표면 개질 방법이 기술되고, 이에서 우선 산화금속은 Z가 반응성 기인 일반식 RSiZ 3 /R 2 SiZ 2 및/또는 R 3 SiZ의 실란과 강하게 혼합되고, 이후 산화금속은 기체상 작업으로 실란과 반응되고, 이후 과량의 실란 및 부산물이 세정되고, 여기서 개질되는 산화금속의 비표면적의 m²당 0.5 내지 7 μmol의 실란이 개질을 위해 사용되고, 산화금속과 실란의 반응 과정 동안, 보조제 물질이 개질되는 산화금속의 비표면적의 m²당 3 μmol 미만의 양으로 부가된다. 본 발명에 따라 표면 개질된 제공되는 미립자 산화금속은 액체 매체의 유동학적 특성을 조절하기 위해 사용될 수 있다. |
