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특허/실용신안

멀티-전극 스택 어레인지먼트

특허 실용신안 개요

기관명, 출원인, 출원번호, 출원일자, 공개번호, 공개일자, 등록번호, 등록일자, 권리구분, 초록, 원본url, 첨부파일 순으로 구성된 표입니다.
기관명 NDSL
출원인 마퍼 리쏘그라피 아이피 비.브이.
출원번호 10-2016-7015699
출원일자 2016-06-13
공개번호 20160721
공개일자 0000-00-00
등록번호
등록일자 0000-00-00
권리구분 KUPA
초록 본 발명은 광학 축(A)을 따라 하전 입자 빔을 조작하기 위한 복수의 적층된 전극들(71-80)을 포함하는 전극 스택(70)에 관한 것이다.각각의 전극은 하전 입자 빔의 통과를 허용하기 위한 전극 어퍼처를 갖는 전극 바디를 포함한다.전극 바디들은 상호 이격되며 전극 어퍼처들은 광학 축을 따라서 동축으로 정렬된다.전극 스택은 축 방향(Z)을 따라 미리결정된 상호 거리들로 전극들(71-80)을 포지셔닝시키기 위한, 인접한 전극들의 각각의 쌍 사이의 전기적으로 절연성인 스페이싱 구조물들(89)을 포함한다.제 1 전극 및 제 2 전극 각각은 하나 또는 그 초과의 지지 부분들(86)을 갖는 전극 바디를 포함하고, 각각의 지지 부분은 적어도 하나의 스페이싱 구조물(89)을 수용하도록 구성된다.전극 스택은 제 1 전극 및 제 2 전극의 지지 부분들(86)뿐만 아니라 개재 스페이싱 구조물(89)을 함께 홀딩하도록 구성된 적어도 하나의 클램핑 부재(91-91c)를 갖는다.
원문URL http://click.ndsl.kr/servlet/OpenAPIDetailView?keyValue=03553784&target=KUPA&cn=KOR1020167015699
첨부파일

추가정보

과학기술표준분류, ICT 기술분류, IPC분류체계CODE, 주제어 (키워드) 순으로 구성된 표입니다.
과학기술표준분류
ICT 기술분류
IPC분류체계CODE H01J-037/02,G21K-001/02,G21K-005/04,H01J-037/065,H01J-037/12,H01J-037/16,H01J-037/24,H01J-037/30,H01
주제어 (키워드)