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특허/실용신안

인 제거 효율이 향상된 하폐수 고도처리장치 및 그 처리방법

특허 실용신안 개요

기관명, 출원인, 출원번호, 출원일자, 공개번호, 공개일자, 등록번호, 등록일자, 권리구분, 초록, 원본url, 첨부파일 순으로 구성된 표입니다.
기관명 NDSL
출원인 코웨이 주식회사
출원번호 10-2013-0110886
출원일자 2013-09-16
공개번호 20150326
공개일자 0000-00-00
등록번호
등록일자 0000-00-00
권리구분 KUPA
초록 본 발명은 총인 제거효율이 향상된 하폐수 고도처리장치 및 그 처리방법에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 원수의 일부가 유입되어 유기물에 의한 탈질 반응이 진행되는 제1무산소조; 상기 제1무산소조를 거친 처리수 및 원수의 일부가 유입되며, 혐기성 상태에서 미생물에 의한 인방출 반응이 진행되는 혐기조; 상기 혐기조를 거친 처리수가 유입되며, 산소가 공급되는 상태에서 생물학적 질산화 반응 및 과잉 인 섭취 반응이 진행되는 호기조; 상기 호기조를 거친 처리수가 유입되며, 내생 호흡을 통한 탈질 반응이 진행되는 제2무산소조; 상기 제2무산소조를 거친 처리수가 유입되며, 분리막에 의해 고액 분리가 진행되는 막분리조; 및 상기 막분리조를 거친 처리수가 유입되는 처리수조를 구비하는 것을 특징으로 하는 하폐수 고도처리장치 및 이를 이용한 하폐수 고도처리방법에 관한 것이다.
원문URL http://click.ndsl.kr/servlet/OpenAPIDetailView?keyValue=03553784&target=KUPA&cn=KOR1020130110886
첨부파일

추가정보

과학기술표준분류, ICT 기술분류, IPC분류체계CODE, 주제어 (키워드) 순으로 구성된 표입니다.
과학기술표준분류
ICT 기술분류
IPC분류체계CODE C02F-003/30,C02F-001/44
주제어 (키워드)