기업조회

본문 바로가기 주메뉴 바로가기

특허/실용신안

METAL OXIDE SEMICONDUCTOR FILM, THIN FILM TRANSISTOR, DISPLAY APPARATUS, IMAGE SENSOR, AND X-RAY SENSOR

특허 실용신안 개요

기관명, 출원인, 출원번호, 출원일자, 공개번호, 공개일자, 등록번호, 등록일자, 권리구분, 초록, 원본url, 첨부파일 순으로 구성된 표입니다.
기관명 NDSL
출원인 TAKATA, Masahiro
출원번호 US-0095168
출원일자 2016-04-11
공개번호 20160805
공개일자 0000-00-00
등록번호
등록일자 0000-00-00
권리구분 USAP
초록 Provided are a metal oxide semiconductor film and a device including the same, the metal oxide semiconductor film including at least indium as a metal component, in which when an indium concentration in the metal oxide semiconductor film is represented by DI (atoms/cm3), and when a hydrogen concentration in the metal oxide semiconductor film is represented by DH (atoms/cm3), the following relational expression (1) is satisfied: 0.1≦DH/DI≦1.8  (1).
원문URL http://click.ndsl.kr/servlet/OpenAPIDetailView?keyValue=03553784&target=USAP&cn=USA2016080225859
첨부파일

추가정보

과학기술표준분류, ICT 기술분류, IPC분류체계CODE, 주제어 (키워드) 순으로 구성된 표입니다.
과학기술표준분류
ICT 기술분류
IPC분류체계CODE H01L-029/24(2006.01),H01L-029/786(2006.01)
주제어 (키워드)