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기관명	NDSL
출원인	후지필름 가부시키가이샤
출원번호	10-2016-7015190
출원일자	2016-06-08
공개번호	20160714
공개일자	0000-00-00
등록번호
등록일자	0000-00-00
권리구분	KUPA
초록	초미세 패턴(예를 들면, 선폭 50nm 이하)의 형성에 있어서, PEB 온도에 의존한 패턴의 선폭 변동을 억제할 수 있고, 또한 보존 안정성도 우수한 감활성광선성 또는 감방사선성 수지 조성물 등을 제공한다. 이 조성물은, 알칼리 가용성 수지, 및 가교제를 포함하고, 상기 가교제가 하기 일반식 (I)로 나타난다.(식 중, R 1 및 R 6 은, 각각 독립적으로, 수소 원자, 또는 탄소수 5 이하의 탄화 수소기를 나타낸다. R 2 및 R 5 는, 각각 독립적으로, 알킬기, 사이클로알킬기, 아릴기, 또는 아실기를 나타낸다. R 3 및 R 4 는, 각각 독립적으로, 수소 원자, 또는 탄소수 2 이상의 유기기를 나타낸다. R 3 및 R 4 는, 서로 결합하여 환을 형성해도 된다.) [화학식 1]
원문URL	http://click.ndsl.kr/servlet/OpenAPIDetailView?keyValue=03553784&target=KUPA&cn=KOR1020167015190
첨부파일

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