| 초록 |
본 발명은 반응 튜브, 분배기 및 가열 장치를 포함하는 유동층 반응기로, 상기 반응 튜브 및 반응 튜브 바닥의 분배기는 패쇄 공간을 이루며, 상기 분배기는 가스 주입구 및 생성물 배출구를 포함하고, 상기 반응 튜브는 최상부 또는 상부에 각각 테일 가스 배출구 및 시드 배출구를 포함하며, 상기 반응 튜브는 반응 내부 튜브 및 반응 외부 튜브를 포함하고, 상기 가열 장치는 상기 반응 내부 튜브의 외부 벽과 반응 외부 튜브의 내부 벽 사이에 형성된 중공인 동공 내에 위치한 유도 가열 장치이고, 여기서 상기 중공인 동공은 보호용 수소, 질소 또는 불활성 기체로 채워지고, 약 0.01 내지 약 5MPa의 압력을 유지할 수 있음을 특징으로 하는, 유동층 반응기 및 상기 반응기를 사용한 고순도 입상 폴리실리콘의 제조 방법에 관한 것이다.본 발명에 따른 유동층 반응기는 반응 챔버 내 실리콘 입자를 직접 가열하는 유도 가열을 사용하여, 반응 튜브의 온도가 반응 챔버 내부보다 낮아지게 하여, 튜브 벽의 퇴적을 방지하고, 보다 균일하게 가열되도록 하여, 큰 직경을 갖는 유동층 반응기에서 단일 반응기 당 생산량을 증가시키는데 유용하다. |
