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특허/실용신안

리소그래피용 광학계 장치

특허 실용신안 개요

기관명, 출원인, 출원번호, 출원일자, 공개번호, 공개일자, 등록번호, 등록일자, 권리구분, 초록, 원본url, 첨부파일 순으로 구성된 표입니다.
기관명 NDSL
출원인 한국기계연구원
출원번호 10-2015-0014868
출원일자 2015-01-30
공개번호 20160811
공개일자 0000-00-00
등록번호
등록일자 0000-00-00
권리구분 KUPA
초록 본 발명의 목적은 바이오, 광학, 에너지 분야 등에 사용되는 나노 구조체를 광학 리소그래피로 제조함에 있어서, 최소 수십 nm 수준에서 최대 수백 μm 수준까지에 이르는 다양한 3차원 또는 2차원 형상의 제조가 용이하고 효과적으로 이루어질 수 있도록 하는, 리소그래피용 광학계 장치를 제공함에 있다. 보다 구체적으로는, 본 발명의 목적은 상술한 바와 같이 넓은 범위의 레지스트에 좁은 범위로 광을 조사하면서도 전체 두께에 걸쳐 올바르게 광이 조사되도록 하여, 선택적 레지스트 경화 공정의 정밀도 및 정확도를 향상할 수 있도록 하는, 리소그래피용 광학계 장치를 제공함에 있다.
원문URL http://click.ndsl.kr/servlet/OpenAPIDetailView?keyValue=03553784&target=KUPA&cn=KOR1020150014868
첨부파일

추가정보

과학기술표준분류, ICT 기술분류, IPC분류체계CODE, 주제어 (키워드) 순으로 구성된 표입니다.
과학기술표준분류
ICT 기술분류
IPC분류체계CODE H01L-021/027,G02B-027/10,G02B-005/30,G03F-007/20
주제어 (키워드)