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특허/실용신안

내장 캐패시터층 형성용 동장 적층판, 다층 프린트 배선판 및 다층 프린트 배선판의 제조 방법

특허 실용신안 개요

기관명, 출원인, 출원번호, 출원일자, 공개번호, 공개일자, 등록번호, 등록일자, 권리구분, 초록, 원본url, 첨부파일 순으로 구성된 표입니다.
기관명 NDSL
출원인 미쓰이금속광업주식회사
출원번호 10-2016-7019175
출원일자 2016-07-15
공개번호 20160825
공개일자 0000-00-00
등록번호
등록일자 0000-00-00
권리구분 KUPA
초록 고다층의 캐패시터 회로 내장 다층 프린트 배선판의 제조에 있어서, 드릴 가공으로 스루홀 형성용 관통 구멍을 형성했을 때, 캐패시터 유전체층에 크랙이 발생하지 않는 캐패시터층 형성재 등의 제공을 목적으로 한다.이 목적을 달성하기 위해, 다층 프린트 배선판의 내층에 구리층/캐패시터 유전체층/구리층의 내장 캐패시터 회로를 형성하기 위해 사용하는 동장 적층판이며, 당해 캐패시터 유전체층을 구성하는 수지 필름의 두께 방향의 복합 탄성률 Er이 6.1㎬ 미만인 것을 특징으로 하는 내장 캐패시터층 형성용 동장 적층판 등을 사용하였다.
원문URL http://click.ndsl.kr/servlet/OpenAPIDetailView?keyValue=03553784&target=KUPA&cn=KOR1020167019175
첨부파일

추가정보

과학기술표준분류, ICT 기술분류, IPC분류체계CODE, 주제어 (키워드) 순으로 구성된 표입니다.
과학기술표준분류
ICT 기술분류
IPC분류체계CODE H05K-001/16,B32B-015/00,B32B-015/04,B32B-015/20,H05K-003/02,H05K-003/46
주제어 (키워드)