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특허/실용신안

고분자로 안정화된, 전기적으로 억압된 나선 강유전성 액정 셀

특허 실용신안 개요

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기관명 NDSL
출원인 나노 앤드 어드밴스드 매터리얼스 인스티튜트 리미티드
출원번호 10-2014-0158929
출원일자 2014-11-14
공개번호 20150604
공개일자 0000-00-00
등록번호
등록일자 0000-00-00
권리구분 KUPA
초록 본 발명은 고분자 안정화를 수반하는 전기적으로 억압된 나선 강유전성 액정(ESHFLC) 셀을 제공한다. 상기 셀은 단량체, 광개시제 및 고분자 네트워크가 ESHFLC 전자-광학 모드의 제약들을 달성하도록 특정의 온도에서 구축된 강유전성 액정(FLC)을 포함하는 혼합물인 액정(LC) 물질을 갖는다. 그 결과의 혼합물은 상기 셀의 FLC 층 두께 이하이고 그리고 그에 상당하는 나선 피치로 특징지워지고, 그리고 자외선 영역 내에서 선택 반사를 제공한다. 상기 순수한 FLC 혼합물 중의 상기 단량체의 농도는 또한 상평형도, 산란 및 경사각에 대하여 최적화된다. 그 결과의 혼합물, 즉, 상기 고분자 안정화 ESHFLC 셀은 상기 ESHFLC 전자-광학 모드의 모든 제약들에 따르고 그리고 전형적인 ESHFLC 셀과 유사한 전자-광학 특성들을 나타낸다.
원문URL http://click.ndsl.kr/servlet/OpenAPIDetailView?keyValue=03553784&target=KUPA&cn=KOR1020140158929
첨부파일

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