광전 반도체 칩을 제조하기 위한 방법
기관명 | NDSL |
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출원인 | 오스람 옵토 세미컨덕터스 게엠베하 |
출원번호 | 10-2016-7006646 |
출원일자 | 2016-03-14 |
공개번호 | 20160428 |
공개일자 | 0000-00-00 |
등록번호 | |
등록일자 | 0000-00-00 |
권리구분 | KUPA |
초록 | 본 발명은 하기 단계들을 포함하는 광전 반도체 칩을 제조하기 위한 방법에 관한 것이다:- 적어도 2개의 상이한 서브 픽셀 영역(3)을 가진 픽셀 영역(2)을 포함하는 반도체 바디(1)를 제공하는 단계, - 양성자성 반응 파트너(19)와 함께 적어도 부분적으로 염을 형성하는데 적합한 전기 도전층(18)을 적어도 하나의 서브 픽셀 영역(3)의 복사선 출력면(9)에 적층하는 단계, - 전기 영동 공정에 의해 전기 도전층(18) 상에 변환층(19, 19')을 증착하는 단계. |
원문URL | http://click.ndsl.kr/servlet/OpenAPIDetailView?keyValue=03553784&target=KUPA&cn=KOR1020167006646 |
첨부파일 |
과학기술표준분류 | |
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ICT 기술분류 | |
IPC분류체계CODE | H01L-033/00,C25D-013/02,C25D-013/22,H01L-027/15,H01L-033/02,H01L-033/50,H01L-033/62 |
주제어 (키워드) |