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특허/실용신안

광학적 간섭필터

특허 실용신안 개요

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기관명 NDSL
출원인 코닌클리케 필립스 일렉트로닉스 엔.브이.
출원번호 10-1988-0008985
출원일자 1988-07-19
공개번호 20080509
공개일자 1997-03-15
등록번호 10-0117394-0000
등록일자 1997-07-01
권리구분 KPTN
초록 다수의 층을 사용하는 경우에도 균열 및 박리 뿐만 아니라 결정상 전이가 억제되는 광학 간섭 필터를 제공한다. 0.5몰 하프튬 에톡사이드 용액 및 염화수소로 산성화된 에탄올중의 0.5몰 산화티탄 용액을 혼합하여 내화성 산화물을 수득하며 기재로 석영 유리 튜브를 사용한다. 이런 내화성 산화물은 두께가 대략 0.055마이크로미터인 혼합된 산화물 층을 침지시키고 대기 중에서 온도 900도 내지 1100도에서 5분 동안 열처리된다. 튜브는 3.5미리미터퍼 세크의 속도로 액체로부터 회수된다. 또한 이런 내화성 산화물은 두께가 0.11마이크로미터인 광학적 층의 경우 2회의 침지 공정이 요구되어 순수한 하프늄 산화물층이 된다. 이런 내화성 산화물로 이루어진 필터는 고온의 온도에서도 열역학적 및 장기간의 광학적 안정성이 부여 되고, 균열, 고반사 현상이 없으며, 더우기 온도 1100도에서 처리한 후에도 전혀 또는 거의 분산되지 않게 구성된다.
원문URL http://click.ndsl.kr/servlet/OpenAPIDetailView?keyValue=03553784&target=KPTN&cn=KOR1019880008985
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