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특허/실용신안

근적외선 그래핀 양자점의 합성방법

특허 실용신안 개요

기관명, 출원인, 출원번호, 출원일자, 공개번호, 공개일자, 등록번호, 등록일자, 권리구분, 초록, 원본url, 첨부파일 순으로 구성된 표입니다.
기관명 NDSL
출원인 한국교통대학교산학협력단
출원번호 10-2012-0133674
출원일자 2012-11-23
공개번호 20140605
공개일자 2014-06-13
등록번호 10-1407903-0000
등록일자 2014-06-09
권리구분 KPTN
초록 본 발명은 근적외선 그래핀 양자점의 합성방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는 그래핀 공급원을 황산 및 질산을 혼합한 강산과 50 내지 120℃의 온도에서 반응시키는 단계와 상기 반응액에 NaOH 및 NaCO 3 를 첨가하여 중화반응시키는 단계를 포함하는 근적외선 그래핀 양자점의 합성방법에 관한 것이다. 본 발명에 따르면, 생체적합성 및 생분해성이 우수하며, 비독성이고 높은 발광성을 가지며 다양한 조건에서 안정적인 근적외선 그래핀 양자점을 합성할 수 있으며, 비외과적 영상화를 위한 생체의학적 분야에 효율적으로 적용될 수 있는 근적외선 그래핀 양자점을 편리하고 쉬운 방법으로 합성할 수 있다.
원문URL http://click.ndsl.kr/servlet/OpenAPIDetailView?keyValue=03553784&target=KPTN&cn=KOR1020120133674
첨부파일

추가정보

과학기술표준분류, ICT 기술분류, IPC분류체계CODE, 주제어 (키워드) 순으로 구성된 표입니다.
과학기술표준분류
ICT 기술분류
IPC분류체계CODE C01B-031/02,B82Y-015/00
주제어 (키워드)