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마스크 블랭크 및 전사용 마스크

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기관명	NDSL
출원인	,
출원번호	10-2016-7015265
출원일자	2016-06-08
공개번호	20160714
공개일자	0000-00-00
등록번호
등록일자	0000-00-00
권리구분	KUPA
초록	기판(10) 위에 전사 패턴을 형성하기 위한 박막(11)과, 레지스트 하지 조성물로 형성되어 박막 위에 구비되는 레지스트 하지막(12)과, 화학 증폭형 레지스트로 형성되어 레지스트 하지막(12) 위에 구비되는 레지스트막(13)과, 레지스트 하지막(12)과 레지스트막(13) 사이에 개재되도록 형성되는 혼합막(14)을 구비하고, 레지스트 하지막(12)은 박막(11)측으로부터 레지스트막(13)측을 향하여 두께 방향으로 분자량이 감소하도록 구성되고, 레지스트막(13)측의 표면에 분자량이 낮은 저분자량 영역(12a)을 갖고 있고, 혼합막(14)은 저분자량 영역(12a)의 성분과 화학 증폭형 레지스트의 성분이 혼합됨으로써 형성되는 마스크 블랭크이다.
원문URL	http://click.ndsl.kr/servlet/OpenAPIDetailView?keyValue=03553784&target=KUPA&cn=KOR1020167015265
첨부파일

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