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특허/실용신안

향상된 시디 균일도를 갖는 적응형 플라즈마 소스 및 이를 이용한 적응형 플라즈마 챔버

특허 실용신안 개요

기관명, 출원인, 출원번호, 출원일자, 공개번호, 공개일자, 등록번호, 등록일자, 권리구분, 초록, 원본url, 첨부파일 순으로 구성된 표입니다.
기관명 NDSL
출원인 에이피티씨 주식회사
출원번호 10-2016-0100705
출원일자 2016-08-08
공개번호 20160825
공개일자 0000-00-00
등록번호
등록일자 0000-00-00
권리구분 KUPA
초록 적응형 플라즈마 소스는, 내부영역에 배치되며, 이너 부싱과, 이너 부싱으로부터 분지되어 이너 부싱 둘레를 따라 나선형으로 배치되는 이너 코일들을 포함하는 이너 플라즈마 소스와, 외부영역에 배치되며, 아우터 부싱과, 아우터 부싱으로부터 분지되어 아우터 부싱 둘레를 따라 나선형으로 배치되는 아우터 코일들을 포함하는 아우터 플라즈마 소스와, 이너 플라즈마 소스 및 아우터 플라즈마 소스를 둘러싸도록 배치되는 평판 구조의 프레임와, 수직 방향으로 이동되도록 프레임에 장착되되, 수직 방향으로의 이동에 연동되어 프레임이 일정 기울기로 기울어지도록 하는 제1 틸팅 레버 및 제2 틸팅 레버와, 그리고 프레임의 중심 하단부에서 고정되게 배치되는 기준 레버를 포함한다.
원문URL http://click.ndsl.kr/servlet/OpenAPIDetailView?keyValue=03553784&target=KUPA&cn=KOR1020160100705
첨부파일

추가정보

과학기술표준분류, ICT 기술분류, IPC분류체계CODE, 주제어 (키워드) 순으로 구성된 표입니다.
과학기술표준분류
ICT 기술분류
IPC분류체계CODE H05H-001/24,H01L-021/3065,H05H-001/46
주제어 (키워드)