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특허/실용신안

조정가능한 높은 수직 자기 이방성을 갖는 자기 터널 접합들

특허 실용신안 개요

기관명, 출원인, 출원번호, 출원일자, 공개번호, 공개일자, 등록번호, 등록일자, 권리구분, 초록, 원본url, 첨부파일 순으로 구성된 표입니다.
기관명 NDSL
출원인 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드
출원번호 10-2023-7026614
출원일자 2023-08-03
공개번호 20230817
공개일자 0000-00-00
등록번호
등록일자 0000-00-00
권리구분 KUPA
초록 본 개시내용의 실시예들은 MRAM 응용들 및 연관된 MTJ 디바이스들을 위해 기판 상에 배치된 막 스택으로부터 MTJ 구조들을 형성하기 위한 방법들을 제공한다.본원에 설명된 방법들은 충분히 높은 수직 자기 이방성(PMA)을 갖는 막 스택을 생성하기 위해 막 스택으로부터 물질 층들의 막 특성들을 형성하는 단계를 포함한다.바람직한 PMA를 생성하기 위해 철 함유 산화물 캡핑 층이 활용된다.철 함유 산화물 캡핑 층을 활용함으로써, 캡핑 층의 두께는 더 미세하게 제어될 수 있고, 자기 저장 층과 캡핑 층의 계면에서의 붕소에 대한 의존성이 감소된다.
원문URL http://click.ndsl.kr/servlet/OpenAPIDetailView?keyValue=03553784&target=KUPA&cn=KOR1020237026614
첨부파일

추가정보

과학기술표준분류, ICT 기술분류, IPC분류체계CODE, 주제어 (키워드) 순으로 구성된 표입니다.
과학기술표준분류
ICT 기술분류
IPC분류체계CODE H10N-050/10,H10B-061/00,H10N-050/01,H10N-050/85
주제어 (키워드)