습식 스크러버 노즐 시스템 및 공정 가스를 세정하기 위한 사용 방법
기관명 | NDSL |
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출원인 | 제네럴 일렉트릭 테크놀러지 게엠베하 |
출원번호 | 10-2016-0081390 |
출원일자 | 2016-06-29 |
공개번호 | 20160728 |
공개일자 | 0000-00-00 |
등록번호 | |
등록일자 | 0000-00-00 |
권리구분 | KUPA |
초록 | 적어도 제 1 분사 레벨 시스템(40), 및 습식 스크러버 타워(14)에서 제 1 분사 레벨 시스템(40) 위에서 콤팩트하고 수직으로 배열된 제 2 분사 레벨 시스템(48)을 포함하는, 공정 가스(F)를 세정하는데 유용한 습식 스크러버(10)가 개시된다. 각 분사 레벨 시스템(40, 48)은 환경 오염물 제거를 위해 공정 가스(F)와 접촉하고 상호혼합하기 위해 노즐에 공급되는 흡착액(AL)을 분무하기 위한, 복수의 분무 평탄화된 비교적 광폭의 분사 각도 노즐(56)이 장비된다. |
원문URL | http://click.ndsl.kr/servlet/OpenAPIDetailView?keyValue=03553784&target=KUPA&cn=KOR1020160081390 |
첨부파일 |
과학기술표준분류 | |
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ICT 기술분류 | |
IPC분류체계CODE | B01D-047/06,B01D-047/12,B01D-053/14,B01D-053/40,B01D-053/50,B01D-053/79 |
주제어 (키워드) |