플라즈마 화학기상 장치
기관명 | NDSL |
---|---|
출원인 | (주)에스엔텍 |
출원번호 | 10-2013-0098376 |
출원일자 | 2013-08-20 |
공개번호 | 20140620 |
공개일자 | 0000-00-00 |
등록번호 | |
등록일자 | 0000-00-00 |
권리구분 | KUPA |
초록 | 본 발명은 플라즈마 화학기상 장치에 관한 것으로서, 진공챔버; 상기 진공챔버 내부의 진공도를 조절하는 진공조절부; 상기 진공챔버 내부에 공정 가스를 공급하는 가스공급부; 상기진공챔버 내부에 롤 형태로 회전 가능하게 마련되며, 외주 표면에 절연층이 형성되어 있는 적어도 하나의 원형전극; 상기 원형전극 내에 마련되어 상기 원형전극의 외측으로 플라즈마 형성을 위한 자기장을 발생하는 적어도 하나의 자기장발생부재; 기재가 상기 원형전극의 플라즈마 형성 부분에 밀착되어 감아돌도록 상기 기재를 롤투롤 형태로 이송하는 기재이송부; 상기 원형전극에 전원을 공급하는 전원공급부를 포함하는 것을 특징으로 한다. 이에 의해, 절연성 및 전도성 재질의 기재에 고속 및 고품질의 성막이 가능한 플라즈마 화학기상 장치가 제공된다. |
원문URL | http://click.ndsl.kr/servlet/OpenAPIDetailView?keyValue=03553784&target=KUPA&cn=KOR1020130098376 |
첨부파일 |
과학기술표준분류 | |
---|---|
ICT 기술분류 | |
IPC분류체계CODE | C23C-016/50,C23C-016/455,H01L-031/18 |
주제어 (키워드) |